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电磁屏蔽技术探讨(一)

2025-10-0512180姚淳 郭祥玉电源技术应用

2.4  屏蔽效能计算实例

场源距离不同材料的屏蔽体(厚度0.254mm)30cm远的屏蔽效能(dB)计算结果见表1。表1中近场和远场的分界点为λ/2π,λ为电磁场的波长。

表1  场源距离不同材料的屏蔽体(厚度0.254mm)30cm远的屏蔽效能dB

频率/Hz
磁场近场电场近场远场磁场近场电场近场远场磁场近场电场近场远场
603.46  3.22     
1k24.89  14.66     
10k44.92212.73128.7351.50217.50134.00   
150k69.40190.20130.40188.0308.0248.00   
1M97.60185.40141.60391.0479.0435.0088.00176.0
15M205.0245.0225.01102.01143.01123.0174.0215.0
100M418.0426.0422.01425.01434.01430.0342.0350.0

3  屏蔽的注意事项

3.1    屏蔽的完整性

如果屏蔽体不完整,将导致电磁场泄漏。特别是电磁场屏蔽,它利用屏蔽体在高频磁场的作用下产生反方向的涡流磁场与原磁场抵消而削弱高频磁场干扰。如果屏蔽体不完整,涡流的效果降低,即屏蔽的效果大打折扣。

3.2 屏蔽材料的屏蔽效能和应用场合

电磁屏蔽技术的进展,促使屏蔽材料的形式不断发展,而不再局限于单层金属平板模式,屏蔽效能也不断提高。应用时要特别注意不同的屏蔽材料具有不同的屏蔽效能和应用场合。

3.2.1   金属平板

电子设备采用金属平板做机箱,既坚固耐用,又具有电磁屏蔽作用。其电磁屏蔽效能与金属平板材料性质、电磁场源性质、电磁场源与金属平板的距离、屏蔽体接地状况等参数有关。各种金属屏蔽材料的性能见表2。

表2    各种金属屏蔽材料的性能

金属屏蔽材料相对于铜的电导率(σCu=5.8×107Ω/m)f=150kHz时的相对磁导率f=150kHz时的吸收损耗/(dB/m)
1.05152
1.00151
0.70142
0.61140
0.29128
黄铜0.26126
0.23124
0.20123
磷青铜0.18122
0.171000650
钢#450.101000500
坡莫合金0.03800002500
不锈钢0.021000220

3.2.2    屏蔽薄膜

当今许多电子设备采用工程塑料做机箱,由于工程塑料的加工工艺性能好,使机箱既造型美观,又成本低、质量轻。但工程塑料无电磁防护性能。屏蔽薄膜是采用喷涂、真空沉积、电镀和粘贴等工艺技术,在工程塑料和有机介质的表面覆盖一层导电膜,从而起到平板屏蔽的作用。一般导电膜的厚度小于电磁波在其内部传播波长的1/4。

几种喷涂工艺达到的屏蔽效能见表3。

表3    几种喷涂工艺达到的屏蔽效能

喷涂工艺厚度/μm电阻/(Ω/mm2)屏蔽效能/dB
锌热喷涂254.050~60
镍基涂层500.5~0.230~75
银基涂层250.05~0.160~70
铜基涂层250.560~70
石墨基涂层257.5~2020~40
电镀0.750.185
化学镀1.250.0360~70
真空沉积1.255~1050~70
电离镀1.00.0150

不同厚度的铜薄膜的屏蔽效能见表4。

表4    铜薄膜的屏蔽效能

厚度/μm频率/HzARB屏蔽效能/dB
0.1051M0.14109-4762
0.1051G0.4479-1762
1.251M0.16109-2683
1.251G5.2079-0.684
2.1961M0.291090.6110
2.1961G9.20790.690
21.961M2.90109-3.5108
21.961G92790171

表头或显示器的屏蔽,可在表头或显示器的正面设置透光导电材料来实现。透光导电材料是在有机介质或玻璃的表面覆盖一层导电膜,使其既透光,又具有一定的屏蔽效能。不同透光率导电玻璃的屏蔽效能见表5。

表5    不同透光率导电玻璃的屏蔽效能

透光率1MHz10MHz100MHz1000MHz
60%94724621
65%90684216
71%84623611
75%7856306
80%7452284
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